研究方向
致力于 Reliability-Aware DTCO,构建基于物理机理的可靠性模型与仿真软件,从原子级缺陷性质出发,预测器件可靠性与电路老化。
以 DFT、机器学习势函数等方法开展第一性原理计算(借助 DASP、ILED 等软件),获取原子级缺陷性质;再代入 All-state Model 以及 RASP、HSPICE 等仿真器,预测 BTI、RTN 等典型的器件可靠性与电路老化问题。
对 eMSM 协议测得的电学数据进行反演,提取原子级缺陷参数;借助 support-vector / dS 唯一性判据,严格证明所提取的参数是候选网格上的唯一非负解,使仿真与实验形成闭环。
DFT、MLIP(借助 DASP、ILED)
陷阱能级、载流子俘获/发射速率
电学测量
SVD / Tikhonov / dS Criterion
GlobalTCAD, Sentaurus TCAD
HSPICE + OMI Compact Model
教育背景
研究成果
原子级缺陷性质仿真
- 高通量缺陷计算:对 SiO2、HfO2 等栅介质中的本征缺陷性质开展系统的第一性原理研究,建立了缺陷数据库。
- 软件开发:主导开发 ILED(Intelligent Learning Engine of Defects),一款面向集成电路材料的自动化缺陷性质计算软件;同时参与 DASP(Defect & Dopant Ab-Initio Simulation Package)核心模块的开发。
机器学习加速缺陷性质计算
- ML 加速:借助机器学习原子间势(MLIPs)加速缺陷搜索,将计算成本降至 DFT 的 7.36%,精度仍保持在 96% 以上。
器件级可靠性仿真方法与软件
- 高通量计算:系统研究无定形 SiO2 中的氧空位缺陷,识别出 7 种稳定构型,对应的形成能跨度较大。
- 模型创新:提出面向 Si/SiO2 MOSFET 的可靠性模型 "All-state Model",是对早期 Two-state Model 与 Four-state Model 的进一步推广:通过纳入无定形栅介质中全部缺陷构型与转移路径,修正了早期模型因忽略关键转移路径而导致的 BTI 退化预测偏差。 该模型目前正被集成进国内主流的 TCAD 仿真器。
- 软件开发:主导开发 RASP——一款多尺度可靠性仿真器,将原子级缺陷参数映射到器件级阈值电压偏移。
基于电学测量的缺陷参数提取
- 将 eMSM(extended Measure-Stress-Measure)协议测得的 BTI ΔVth 退化数据建模为带非负约束的反问题;采用 SVD、Tikhonov 正则化、PLS 等方法提取 NMP 缺陷参数。
- 基于 support-vector / dS convex-hull-distance 判据,构建全局唯一性证书,严格证明所提取的缺陷参数是候选网格上的唯一非负解。
- 产业合作:方法适用于 Si/SiO2 MOSFET 与 FinFET。目前正与中国汽车工程研究院(CAERI)开展合作,将其应用于高功率汽车芯片的可靠性测试数据,所提取的缺陷参数会进一步输入到器件级仿真中。
电路级老化紧凑模型开发
- 模型创新:正在基于 "All-state Model" 开发 MOSFET 与 FinFET 的电路级老化模型。
- 原子到电路仿真:将自研的缺陷参数提取方法与 HSPICE 相结合,构建从原子级缺陷到电路老化的完整仿真链条。
软件开发
RASP
核心开发者 2024 – 至今Reliability Ab initio Simulation Package
基于 All-state Model 的可靠性仿真软件包,跨尺度地将第一性原理缺陷参数映射到器件级 ΔVth 预测。
文档与用户手册ILED
核心开发者 2023 – 至今Intelligent Learning Engine of Defects
面向集成电路材料缺陷性质计算的自动化软件包(已获软件著作权)。支持机器学习原子间势、机器学习哈密顿量等方法,加速原子尺度的缺陷性质计算。
代表性论文
- "Si/SiO2 MOSFET reliability physics: From four-state model to all-state model." Physical Review Applied 24, 044040, 2025.
- "RASP: Reliability ab initio simulation package of MOSFETs based on all-state model." Microelectronics Reliability, 审稿中.
- "An overlooked origin of NBTI in Si based MOSFETs." IEEE Electron Device Letters, 已投稿.
- "Machine learning interatomic potentials accelerate defect exploration in amorphous silica." Physical Review Materials, 2025.
- "DASP: Defect and Dopant Ab-Initio Simulation Package." Journal of Semiconductors 43, 042101, 2022.


